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GE SOURCE 高速低反壓介質(zhì) 反相層析填料

GE SOURCE 高速低反壓介質(zhì) 反相層析填料反相層析 ● 可在pH1-12 下進(jìn)行反相純化，比硅膠介質(zhì)載量更高，反壓更低。減低生產(chǎn)成本。

更新時(shí)間：2025-06-13型號(hào)：廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
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GE SOURCE 高速低反壓介質(zhì) 疏水層析填料

GE SOURCE 高速低反壓介質(zhì) 疏水層析填料低壓系統(tǒng)分辨率Z高的介質(zhì)，1800 cm/h 流速下反壓僅1 MPa，大大減少設(shè)備成本。 ● 顆粒大小*均勻，流速1000 cm/h 以上仍保持高分辨率，數(shù)分鐘內(nèi)即完成實(shí)驗(yàn)。 ● *的化學(xué)物理穩(wěn)定性，可用1M HCl 和1M NaOH 在位清洗，壽命特長(zhǎng)。 ● 低非特異性吸附，回收率高。良好的重復(fù)性和工藝放大能力。

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現(xiàn)在聯(lián)系
SOURCE 高速低反壓介質(zhì) 離子交換填料

SOURCE 高速低反壓介質(zhì) 離子交換填料 SOURCE低反壓精細(xì)純化*！ ● 低壓系統(tǒng)分辨率Z高的介質(zhì)，1800 cm/h 流速下反壓僅1 MPa，大大減少設(shè)備成本。 ● 顆粒大小*均勻，流速1000 cm/h 以上仍保持高分辨率，數(shù)分鐘內(nèi)即完成實(shí)驗(yàn)。 ● *的化學(xué)物理穩(wěn)定性，可用1M HCl 和1M NaOH 在位清洗，壽命特長(zhǎng)。 ● 低非特異性吸附，回收率高。良好的重復(fù)性和工藝放大能力

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GE SOURCE 高速低反壓介質(zhì) （填料）

GE SOURCE 高速低反壓介質(zhì) （填料） SOURCE低反壓精細(xì)純化*！ ● 低壓系統(tǒng)分辨率Z高的介質(zhì)，1800 cm/h 流速下反壓僅1 MPa，大大減少設(shè)備成本。 ● 顆粒大小*均勻，流速1000 cm/h 以上仍保持高分辨率，數(shù)分鐘內(nèi)即完成實(shí)驗(yàn) ● *的化學(xué)物理穩(wěn)定性，可用1M HCl 和1M NaOH 在位清洗，壽命特長(zhǎng) ● 低非特異性吸附，回收率高。良好的重復(fù)性和工藝放大能力。

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GE 親和層析填料（AC）

GE 親和層析填料（AC）親和層析（AC）是根據(jù)目標(biāo)蛋白和層析基質(zhì)上的特定配基發(fā)生可逆性地相互作用而進(jìn)行分離的一種技術(shù)。這種相互作用既可以是特異性的（如抗體與protein A或protein G的結(jié)合），也可以是非特異性的（如組氨.酸標(biāo)簽蛋白與金屬離子的結(jié)合）。

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